PI無(wú)氧烘箱工藝流程

  PI光刻膠是一種高性能、高精度的光刻膠，被廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、MEMS等領(lǐng)域

PI無(wú)氧烘箱工藝的必要性：

  PI光刻膠的預(yù)烘是將其涂覆在襯底上后，在特定溫度下進(jìn)行一段時(shí)間的烘千，使PI溶液中的溶劑揮發(fā)掉，PI形成一定的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)并增強(qiáng)其附著性。無(wú)氧烘箱用于半導(dǎo)體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。BCB、PI、PBO膠固化，LCP新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理。

PI無(wú)氧烘箱工藝流程要求（參考）：

1. 在低氧狀態(tài)下使用

2. 真空加熱，升溫至1xx℃

3. 再溫至1xx℃(約xh),保溫約 30min;

4. 繼續(xù)升溫至x00℃，視涂層厚度不同加熱10-x0min

5. 保溫 約60min；

6. 降溫至100℃以下
   

PI無(wú)氧烘箱性能：

溫度：室溫+50～400℃

氧濃度：≤10ppm 

真空度：1Torr

冷卻裝置：輔助降溫

控制方式：可程式運(yùn)行

  無(wú)氧烘箱，真空無(wú)氧烘箱，無(wú)塵烘箱，HMDS烘箱，硅烷蒸鍍機(jī)，無(wú)塵無(wú)氧烘箱，氮?dú)夂嫦洌娘L(fēng)真空烘箱，超低溫試驗(yàn)箱，快溫變?cè)囼?yàn)箱，恒溫恒濕試驗(yàn)箱，高低溫沖擊試驗(yàn)箱等設(shè)備，以及非標(biāo)定制。---上海雋思儀器專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)/服務(wù)！

 PI光刻膠的制備一般采用溶解法或乳化法。溶解法是將PI粉末在氮?dú)鈿夥障氯苡诩状蓟虮扔袡C(jī)溶劑中，加入一定的表面活性齊并在攪拌和加熱條件下使其溶解成為PI溶液。乳化法是將PI顆粒懸浮于水相中，經(jīng)過(guò)乳化劑的加入后與有機(jī)相反復(fù)振蕩，使PI成為均勻的乳狀體，最終得到PI乳液。